Разработан новый метод создания наноструктур
Опубликовано ssu-filippov в 8 июля, 2011 - 04:44
Технология значительно упрощает и удешевляет изготовление трёхмерных объектов в наномасштабе.
В настоящее время 3D-нанообъекты можно изготавливать двумя
способами — «сверху вниз» и «снизу вверх». В настоящее время
3D-нанообъекты можно изготавливать двумя способами — «сверху вниз» и
«снизу вверх».
Первый — оптическая литография
с применением фазосдвигающих масок (специальных плоских шаблонов, по
которым распределяется свет на слое фоторезиста). Этот метод требует
сверхточных масок, на производство которых уходит много времени и сил.
Рис. 1. Наноструктура, полученная с помощью новой методики: вид сверху и сбоку в разных масштабах (фото Chih-Hao Chang).
Другая технология предполагает использование самоорганизующихся коллоидных наночастиц,
которые формируют шаблонную структуру. Её можно модифицировать, либо
напыляя дополнительные частицы (например, осаждением из паровой фазы),
либо вытравливая лишние. Здесь главную проблему представляет возможность
ошибки в процессе «сборки
...
Читать дальше »
