Кафедра
Инженерных дисциплин
 
Краснодонский факультет инженерии и менеджмента
Восточноукраинского национального университета
имени Владимира Даля
Вс, 05.12.2021, 18:24
Приветствую Вас Гость | RSS
Меню сайта

Форма входа

Категории раздела
Новости Факультета!!! [141]
Новости нашего региона [484]
Новости науки и техники [1133]
IT- новости [894]
Авто-новости [98]
Сообщения об интересных событиях [414]
Зарубежные новости [203]
Новости материаловедения [74]
Водород [28]
Сведения о влиянии водорода. Водородная энергетика.
Здоровье [126]
Новости образования [48]
Новости университета [43]
Новости Украины [70]
Разное [319]
Триботехника [1]
Компьютерные игры [43]
Программирование [9]
Подготовка к поступлению [162]

Поиск

Главная » 2011 » Июль » 8 » Разработан новый метод создания наноструктур
08:11
Разработан новый метод создания наноструктур

Разработан новый метод создания наноструктур

Технология значительно упрощает и удешевляет изготовление трёхмерных объектов в наномасштабе.

В настоящее время 3D-нанообъекты можно изготавливать двумя способами — «сверху вниз» и «снизу вверх». В настоящее время 3D-нанообъекты можно изготавливать двумя способами — «сверху вниз» и «снизу вверх».

Первый — оптическая литография с применением фазосдвигающих масок (специальных плоских шаблонов, по которым распределяется свет на слое фоторезиста). Этот метод требует сверхточных масок, на производство которых уходит много времени и сил.

20110705135407-1.png Рис. 1. Наноструктура, полученная с помощью новой методики: вид сверху и сбоку в разных масштабах (фото Chih-Hao Chang).

Другая технология предполагает использование самоорганизующихся коллоидных наночастиц, которые формируют шаблонную структуру. Её можно модифицировать, либо напыляя дополнительные частицы (например, осаждением из паровой фазы), либо вытравливая лишние. Здесь главную проблему представляет возможность ошибки в процессе «сборки» шаблона, поскольку малейший дефект отразится на всём объекте.

Группа учёных под руководством Чи-Хао Чана из Массачусетского технологического института (США) предлагает комбинировать оба подхода. Вначале можно вырастить маску из коллоидных наночастиц на подложке, а затем использовать её в литографии. Каждая наночастица в этом случае действует как крошечная линза, фокусирующая световой луч. Интенсивность последнего зависит от местоположения частицы и её соседей.

Как отмечает г-н Чан, таким методом можно создавать всевозможные формы — как простые отверстия, так и комплексные «узоры», причём с меньшими затратами и за более короткий срок. Кроме того, слои не обязательно должны быть идентичными друг другу.

Области применения технологии довольно обширны — от фотонных кристаллов до фильтрующих наномембран.

Результаты работы опубликованы в статье:

C.-H. Chang, L. Tian, W. R. Hesse, H. Gao, H. J. Choi, J.-G. Kim, M. Siddiqui and G. Barbastathis From Two-Dimensional Colloidal Self-Assembly to Three-Dimensional Nanolithography. – 2011, 11 (6), pp 2533–2537; DOI: 10.1021/nl2011824.


Источник(и):

1. MIT News

2. compulenta.ru

http://www.nanonewsnet.ru/
Категория: IT- новости | Просмотров: 484 | Добавил: Professor | Рейтинг: 0.0/0
Всего комментариев: 0
Добавлять комментарии могут только зарегистрированные пользователи.
[ Регистрация | Вход ]
Мы - Далевцы!

Календарь
«  Июль 2011  »
ПнВтСрЧтПтСбВс
    123
45678910
11121314151617
18192021222324
25262728293031

Архив записей

Наши партнёры
  • Кафедра гуманитарных и социально-экономических дисциплин
  • Официальный блог
  • Сообщество uCoz
  • FAQ по системе
  • Инструкции для uCoz

  • Статистика

    Онлайн всего: 1
    Гостей: 1
    Пользователей: 0

    Copyright MyCorp © 2021     Created by Alex Kalinin